日経エレクトロニクス 1999/02/22号

ニュース・ダイジェスト
電子ビームの露光技術で共同開発相次ぐ

 米Lucent Technologies社と米Applied Materials社,オランダASM Lithography Holding社の3社は共同で,電子ビーム露光技術「SCALPEL」を開発すると発表した。これとは別に,ニコンと米IBM 社も電子ビームを使ったステッパを共同開発していくと発表した。いずれも最小線幅0.1nm以下の加工を目的とする。ArFエキシマ・レーザ光源の次をねらう。(38ページ掲載記事から抜粋) *テキスト版記事の文字数:267文字

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関連カテゴリ・企業名
【記事に含まれる分類カテゴリ】
エレクトロニクス > エレクトロニクス設計・製造 > エレクトロニクス製造技術・装置
【記事に登場する企業】
米IBM社
米アプライド・マテリアルズ社
蘭ASMリゾグラフィ・ホールディング社
ニコン
米ルーセント・テクノロジー社
update:19/09/26