日経エレクトロニクス 2001/08/27号

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新型フラッシュEEPROM MONOS構造に熱い視線
国際会議「NVSMW」から

 不揮発性メモリ関連で世界最大の国際会議「Non—Volatile Semiconductor Memory Workshop(NVSMW)」が,2001年8月12日〜16日に米国カリフォルニア州モントレーで開かれた。今回のNVSMWは,景気減速の影響を受けて参加者数こそ約240人と前回の約270人から若干減少した。(27ページ掲載記事から抜粋) *テキスト版記事の文字数:1588文字

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update:18/08/02