日経エレクトロニクス 2007/07/16号

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high−k[ high dielectric constant ]
トランジスタの歴史を変える技術,しかし…

 high-kはLSIの基本素子であるMOSトランジスタのゲート絶縁膜の素材を高誘電率材料に置き換える技術の総称。kは材料の誘電率を表わす変数記号である。従来のSiO2系材料をHf酸化物などに換える。2007年1月に米Intel Corp.,米IBM Corp.がそれぞれ45nm世代で採用すると発表した。この技術が注目を集める理由は大きく二つある。(47ページ掲載記事から抜粋) *テキスト版記事の文字数:1290文字

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update:18/07/30