日経エレクトロニクス 2012/09/03号

クローズアップ 半導体
IntelやTSMCが装置メーカーに出資
450mmウエハーやEUV露光の実用化を急ぐ

 450mmウエハーやEUV(extreme ultraviolet)露光といった次世代の半導体製造技術を巡る動きが、にわかに活発になってきた。2012年7月、露光装置最大手のオランダASML社は、これらの技術の開発を、半導体メーカーから総額約1300億円の支援を受けて進めると発表。併せて、同社株式の最大25%を顧客企業向けに発行し、資本参加を受け入れる計画を明らかにした。(119ページ掲載記事から抜粋) *テキスト版記事の文字数:1073文字

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update:18/07/30