日経エレクトロニクス 2014/01/06号

NEレポート
磁性薄膜をチップ上に形成し 内部の自家中毒を抑制
東北大学などが開発、Co−Zr−Nb膜でGHz帯の雑音を吸収

 「ICの設計や製造技術を変えることなく、後から磁性薄膜を形成するだけでIC内で発生する雑音を抑制できる」(東北大学大学院 工学研究科  未来科学技術共同研究センター 教授の山口正洋氏)。 東北大学、神戸大学、ルネサス エレクトロニクス、NECの研…(10〜11ページ掲載記事から抜粋) *テキスト版記事の文字数:2668文字

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関連カテゴリ・企業名
【記事に含まれる分類カテゴリ】
エレクトロニクス > CPU・LSI製品・技術 > IC・LSI
【記事に登場する企業】
NEC
神戸大学
東北大学
ルネサスエレクトロニクス
update:19/09/26