日経エレクトロニクス 2017/05号

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半導体向けナノインプリント、2019年にNANDフラッシュ量産か
キヤノンや東芝メモリら4社連合が技術を大幅に改善

 キヤノン、大日本印刷(DNP)、東芝メモリ(旧東芝)および韓国SK Hynix社の4社は、2017年2月末に開かれた半導体露光技術の国際会議「SPIE Advanced Lithography 2017(SPIE)」にそれぞれ登壇し、ナノインプリントリソグラフィー(NIL)技術がNANDフラッシュメモリーの量…(24〜25ページ掲載記事から抜粋) *テキスト版記事の文字数:2681文字

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【記事に含まれる分類カテゴリ】
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車・機械・家電・工業製品 > ナノテクノロジー > その他(ナノテクノロジー)
【記事に登場する企業】
韓国・SK Hynix社
キヤノン
大日本印刷
東芝
update:18/08/06