日経エレクトロニクス 1999/06/28号

ニュース・ダイジェスト
米Intel社,0.18nmルールで量産開始

 米Intel社は,設計ルール0.18nmを使ったマイクロプロセサの量産を始めた。まず,400MHz動作のMobile Pentiumプロセサに適用した。ゲート長は0.14nm,ゲート酸化膜厚は2nmである。6層のAl配線をもつ。層間絶縁膜にはSiO2よりも誘電率が低いSiOFを使った。なお,同社は1999年第1四半期から同ルールで製造を始めていた。(39ページ掲載記事から抜粋) *テキスト版記事の文字数:247文字

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米インテル社
update:18/08/07