日経マイクロデバイス 2000/02号

Details LSI(ロジック)
LSI,LCDの4分野に向け 企業が実用化に取り組み 始めた「Cat—CVD」
低温成膜の有力候補として浮上

絶縁膜やSi膜を300℃以下の低温で形成できる技術として提案されている「Cat—CVD」法が,実用化に向けて大きく進展した。Cat—CVD法は,北陸先端科学技術大学院大学教授の松村英樹氏が広島大学助教授だった1985年に発明し,その後基礎研究が続けられてきた。ここへ来てLSI,LCDの各社,製造装置メーカーが,実用化に取り組み始めた。(155〜158ページ掲載記事から抜粋) *テキスト版記事の文字数:2315文字

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広島大学
北陸先端科学技術大学院大学
update:19/09/26