日経マイクロデバイス 2000/02号

NewsLetter LSI(メモリー)
ArF露光向けレジストを 韓国Samsungと 米Shipleyが共同開発

 韓国Samsung Electronics Co., Ltd.はレジスト大手の米Shipley Co.と共同でArFエキシマ・レーザー露光向けの新型レジストを開発する。共同開発によってレジストの開発期間を短縮し,ArF露光技術を早期に立ち上げることを狙う。開発したレジストは製造権をShipleyが,使用権をSamsung Electronicsが優先的に得るほか,他のメーカーにもライセンス供与していく方針である。(142ページ掲載記事から抜粋) *テキスト版記事の文字数:305文字

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関連カテゴリ・企業名
【記事に含まれる分類カテゴリ】
エレクトロニクス > CPU・LSI製品・技術 > メモリー
【記事に登場する企業】
韓国・サムスン・エレクトロニクス社
米シプレイ社
update:19/09/26