日経エレクトロニクス 2000/06/19号

ニュース・ダイジェスト
Intel社,0.13nmプロセスに200億円を投資

 米Intel社は,米国New Mexico州Rio Ranchoの工場に200億米ドルを投資し, 0.13nmルールの製造プロセス,300mmウエーハに対応した設備を導入する。工場の床面積を約30万mm2以上拡大,このうちクリーン・ルームの拡張面積は約4万mm2となる。2002年にも,300mmウエーハを使った0.13nmルールのCu配線CPUの製造を始める見通しである。(46ページ掲載記事から抜粋) *テキスト版記事の文字数:261文字

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米インテル社
update:19/09/26