日経マイクロデバイス

2000/12号

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update：19/09/26

日経マイクロデバイス

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ブレークスルー

新応用を拓く「電子キューブ」

カレンダ

カレンダ

インタビュー

競合には「寝ていてほしい」

ニュース・クリップ

LSI設計

ニュース・クリップ

LSI製造

ニュース・クリップ

300mmLSI工場

ニュース・クリップ

LCD（ディスプレイ）

ニュース・クリップ

パッケージ

産業ウオッチャ

TFT次世代製造技術に向け 新組織作りに6社が合意 通産省プロジェクトに参加

産業ウオッチャ

シャープのフラッシュ 日本ファウンドリ−に 生産を委託，70億円出資

産業ウオッチャ

PC向けの需要低迷で DRAM価格が下落 年内に下げ止まる方向

産業ウオッチャ 寄稿

強気一辺倒の 台湾LSI企業が変曲点 資金調達能力で明暗

産業ウオッチャ 寄稿

株価下落で資金調達が 困難になる台湾 TFT新規投資は一服の機会

産業ウオッチャ 寄稿

中国への進出を 真剣に議論する 台湾LSIメーカー

産業ウオッチャ

台湾TSMC，300mm ライン建設の 進ちょくを明らかに

産業ウオッチャ

米SIAが世界の 半導体市場を予測 「2010年は1兆米ドルへ」

産業ウオッチャ 寄稿

2000年第3四半期に 液晶モニター大きく成長 いよいよ米国で本格普及

産業ウオッチャ 寄稿

システム・イン・ パッケージや高密度 基板を米国で議論

産業ウオッチャ 寄稿

高密度実装と 環境問題は 日欧がリード

産業ウオッチャ 寄稿

ベンチャ，大手が 入り乱れてCMOS イメージ・センサーに参入

産業ウオッチャ

オランダASMLが 考える露光 ロードマップ

産業ウオッチャ 寄稿

スマート・カード関連の 「CARTES 2000」開催 システム性の高いチップへ

技術レター［ＬＳＩ設計］

「ISSCC2001」 ギガ時代の 本格到来を告げる

技術レター［ＬＳＩ設計］

Chartered，RF CMOS ロードマップを明らかに， 2001年には0．13μmへ

技術レター［ＬＳＩ設計］

図研とエルピーダメモリが 次世代DRAM設計環境を 共同開発

技術レター［ＬＳＩ設計］

Bluetooth向け ソリューションが見えた 「World PC Expo 2000」

技術レター［ＬＳＩ製造］

2003年，0．09μmで6F2独Infineonの DRAM微細化計画

技術レター［ＬＳＩ製造］

米Micron Technology 2001年内に0．15μｍへ 100％移行

技術レター［ＬＳＩ製造］

米Lam Research アスペクト比15：1の 穴開けを可能に

技術レター［ＬＳＩ製造］

米Intel，0．13μm ロジックLSIプロセスの 開発を完了

技術レター［ＬＳＩ製造］

ゲート長0．095μmの システムLSI技術を NECが開発

技術レター［パッケージ］

米IBMが3億米ドルを 投じて中国上海に パッケージ工場を建設

技術レター［パッケージ］

LDで励起する YAGレーザー型 マーキング装置を発売

技術レター［パッケージ］

台湾メーカーが新竹で システム・イン・パッケージ 技術を徹底討論

技術レター［パッケージ］

Si上に形成する 光導波路素子を 米国ベンチャが出荷

技術レター［ＬＣＤ（ディスプレイ）］

大型基板対応と高精細 パネル対応を同時に 進める製造装置

技術レター［ＬＣＤ（ディスプレイ）］

NTSC比72％から80％に 色再現性を向上した カラー・フィルタを開発

技術レター［ＬＣＤ（ディスプレイ）］ 寄稿

液晶材料とCRTの 発表が脚光を浴びた 「ASID’00」

技術レター［ＬＣＤ（ディスプレイ）］

低温多結晶Si向け アニール装置の新提案や 大型基板対応が進む

TFT次世代製造技術に向け　新組織作りに6社が合意　通産省プロジェクトに参加

シャープのフラッシュ　日本ファウンドリ−に　生産を委託，70億円出資

PC向けの需要低迷で　DRAM価格が下落　年内に下げ止まる方向

産業ウオッチャ　寄稿

強気一辺倒の　台湾LSI企業が変曲点　資金調達能力で明暗

産業ウオッチャ　寄稿

株価下落で資金調達が　困難になる台湾　TFT新規投資は一服の機会

産業ウオッチャ　寄稿

中国への進出を　真剣に議論する　台湾LSIメーカー

台湾TSMC，300mm　ライン建設の　進ちょくを明らかに

米SIAが世界の　半導体市場を予測　「2010年は1兆米ドルへ」

産業ウオッチャ　寄稿

2000年第3四半期に　液晶モニター大きく成長　いよいよ米国で本格普及

産業ウオッチャ　寄稿

システム・イン・　パッケージや高密度　基板を米国で議論

産業ウオッチャ　寄稿

高密度実装と　環境問題は　日欧がリード

産業ウオッチャ　寄稿

ベンチャ，大手が　入り乱れてCMOS　イメージ・センサーに参入

オランダASMLが　考える露光　ロードマップ

産業ウオッチャ　寄稿

スマート・カード関連の　「CARTES　2000」開催　システム性の高いチップへ

「ISSCC2001」　ギガ時代の　本格到来を告げる

Chartered，RF　CMOS　ロードマップを明らかに，　2001年には0．13μmへ

図研とエルピーダメモリが　次世代DRAM設計環境を　共同開発

Bluetooth向け　ソリューションが見えた　「World　PC　Expo　2000」

2003年，0．09μmで6F2独Infineonの　DRAM微細化計画

米Micron　Technology　2001年内に0．15μｍへ　100％移行

米Lam　Research　アスペクト比15：1の　穴開けを可能に

米Intel，0．13μm　ロジックLSIプロセスの　開発を完了

ゲート長0．095μmの　システムLSI技術を　NECが開発

米IBMが3億米ドルを　投じて中国上海に　パッケージ工場を建設

LDで励起する　YAGレーザー型　マーキング装置を発売

台湾メーカーが新竹で　システム・イン・パッケージ　技術を徹底討論

Si上に形成する　光導波路素子を　米国ベンチャが出荷

大型基板対応と高精細　パネル対応を同時に　進める製造装置

NTSC比72％から80％に　色再現性を向上した　カラー・フィルタを開発

技術レター［ＬＣＤ（ディスプレイ）］　寄稿

液晶材料とCRTの　発表が脚光を浴びた　「ASID’00」

低温多結晶Si向け　アニール装置の新提案や　大型基板対応が進む

技術レター［ＬＣＤ（ディスプレイ）］　寄稿

世界初の「Cat—CVD」　関連の国際会議を開催　日米欧の状況が明らかに

Kilby氏がノーベル賞受賞　見えてくる　賞の性格の変貌

積み増して前年度比2倍の　LSI設備投資は　事業存続の最低ライン

200mmライン増産に伴う　課題克服に取り組む　NECスコットランド工場

世界の「センター・オブ・　エクセレンス」へ　着々と進むベルギーIMEC

μレポート［ＬＳＩ設計］　寄稿

設計効率1ケタ向上狙う　インターネットの利用が　LSI各社の成否を分ける

インターネット時代だからこそ　「フェイス・トゥ・フェイス」が必要に

特集　Ｐａｒｔ１

「＋α」技術の芽が続出　育む土壌の強化へ

特集　Ｐａｒｔ２

日本発のアイデア　原理原則を見直す

特集　Ｐａｒｔ３

技術革新の世紀へ　第一歩を踏み出す

韓国・台湾勢が躍進　FPD産業は大衆化の波に乗る

解説［ＬＣＤ（ディスプレイ）］　寄稿

「1型＝10米ドル」を2年前倒し　1億台／年でCRT逆転を狙う

IP取引サービスが　システムLSI事業拡大を支える

連載［技術者の経営教室］　寄稿

他社を圧倒する　Samsungの半導体利益

連載［産業競争力］　寄稿

ビジョン作成と，世界の　頭脳が集まる仕組み必須