日経マイクロデバイス 2001/04/01号

μレポート[LSI製造] 囲み
「Microlithography 2001」 SCALPEL関連の招待講演が中止に

 この3月に米国で開かれた露光技術の国際会議「SPIE’s 26th Annual International Symposium on Microlithography (Microlithography 2001)」では,予定されていた4件の招待講演のうち,電子ビーム(EB)投影露光技術「SCALPEL(SCattering with Angular Limitation Projection Electron—Beam Lithography)」の講演が中止になった。 これは,SCALPELを推進する合…(150ページ掲載記事から抜粋) *テキスト版記事の文字数:991文字

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米インテル社
update:19/09/26