日経マイクロデバイス 2001/07号

産業ウオッチャ
「2001 IITC」 low—k材料選びは 再び混沌の様相

 「低誘電率(low—k)層間絶縁膜の選択をめぐる議論が再び混沌としてきた」(複数の配線技術者)。このような指摘が6月に米国で開かれた「2001 International Interconnect Technology Conference(2001 IITC)」に多く出た。(25ページ掲載記事から抜粋) *テキスト版記事の文字数:611文字

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米IBM社
update:19/09/26