日経マイクロデバイス 2001/07号

解説[LSI製造]
日本の次世代露光戦略 光とEBの両面で勝負
プロセス失墜を阻止できるか

 「日本は光と電子ビーム(EB)の両方を開発し続けるべきだ」。このような指摘が多くの国内露光関係者から出ている。EB露光を事実上あきらめ,光を使ったEUV(extreme ultraviolet)露光に集約する世界の流れとは完全に異なるが,リスクを低減できるメリットはある。(105〜109ページ掲載記事から抜粋) *テキスト版記事の文字数:4764文字

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update:19/09/26