日経マイクロデバイス 2001/07号

産業ウオッチャ
低加速電圧の等倍 EB露光技術「LEEPL」の 開発コンソーシアムが始動

 低加速電圧の等倍電子ビーム(EB)露光技術「Low Energy E—beam Proximity Projection Lithography(LEEPL)」を推進する「LEEPL技術コンソーシアム」が6月14日に発足した。参加企業はソニー,NEC,ローム,NTTアドバンステクノロジ,大日本印刷,凸版印刷,HOYA,東京応化工業,JSR,富士フイルムアーチ,東京精密,リープルの計12社である。(29ページ掲載記事から抜粋) *テキスト版記事の文字数:502文字

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関連カテゴリ・企業名
【記事に含まれる分類カテゴリ】
エレクトロニクス > エレクトロニクス設計・製造 > エレクトロニクス製造技術・装置
【記事に登場する企業】
NEC
NTTアドバンステクノロジ
LEEPL技術コンソーシアム
JSR
ソニー
大日本印刷
東京応化工業
東京精密
凸版印刷
HOYA
リープル
ローム
update:19/09/26