日経マイクロデバイス 2001/09号

産業ウオッチャ
STARCが標準ルール策定 一つのIPを複数の 工場で製造可能に

 一つのIP(intellectual property)を複数のLSI工場で容易に作れるようになる。半導体理工学研究センター(STARC)は,0.1μmプロセスに対する標準デザイン・ルールを策定した。これを使ったセル・ライブラリの標準版を2002年第4四半期までに構築する。(31ページ掲載記事から抜粋) *テキスト版記事の文字数:712文字

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日立製作所
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update:19/09/26