日経マイクロデバイス

2001/10号

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update：19/09/26

日経マイクロデバイス

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ブレークスルー

次は並列プロセサの基幹技術に挑む

カレンダ

カレンダ

インタビュー

液晶テレビ事業に参入

ニュース・クリップ

LSI製造

ニュース・クリップ

LSI設計

ニュース・クリップ

300mmLSI工場

ニュース・クリップ

FPD

ニュース・クリップ

パッケージ

おぴにおん

設計は上流へ，製造は二極分化

おぴにおん

「出でよ，トリックスター」

産業ウオッチャ

韓国Hynix，TFT事業を 台湾Candoグループに 6億5000万米ドルで譲渡

産業ウオッチャ

国内LSI各社から 業績の大幅下方修正と 生産ラインの集約相次ぐ

産業ウオッチャ

PDPの年末商戦 国内大型テレビ市場の 10％を狙う

産業ウオッチャ

テロリスト攻撃の影響 「年末商戦が心配」と JEITA会長の森下氏

産業ウオッチャ

積極開放に方針転換した 台湾の対中国政策 課題山積で先が見えない

産業ウオッチャ

200mmウエーハに関する 対中国投資は解禁の方向へ TSMCは上海進出を示唆

産業ウオッチャ

Siファウンドリ2社の 売上高が対前月比プラスへ 稼働率も若干回復

産業ウオッチャ

TFT液晶市場で日本の 存在感が低下，シェアで 韓国に首位を明け渡す

産業ウオッチャ

「シリコンシーベルト福岡」 福岡県知事が構想を発表 システムLSIの設計拠点へ

産業ウオッチャ

半導体製造装置の BB比上昇は見かけ上 プリント基板も同様か

産業ウオッチャ

GaAsの製造歩留まりを 上げる新プロセスを開発 中間層に新材料を導入

技術レター［ＬＳＩ製造］

NAND型フラッシュ 1Gチップの製品発表で 韓国Samsungが先行

技術レター［ＬＳＩ製造］

カーボン・ナノチューブ上の 論理回路，米IBMが 選択的な熱処理技術で実現

技術レター［ＬＳＩ製造］

SPM応用のEB露光技術を 日立基礎研が開発 試作で線幅25nmが可能

技術レター［ＬＳＩ製造］

超微量元素の検出技術や GaN系の希薄磁性半導体が 登場した「応用物理学会」

技術レター［ＬＳＩ製造］

LSI向けSCMシステム 米KLA—Tencorと 米GetSiliconが共同開発

技術レター［ＬＳＩ設計＆パッケージ］

IPテストのための 標準仕様を 米VSI Allianceが策定

技術レター［ＬＳＩ設計＆パッケージ］

PCインタフェースは シリアルに，米Intelが 3方式を開発中

技術レター［ＬＳＩ設計＆パッケージ］

「SuperH」マイコンと 複数のメモリーを 日立が1パッケージ化

技術レター［ＬＳＩ設計＆パッケージ］

MEMS技術を使った 回転加速度センサー LSI大手2社が製品へ

技術レター［ＦＰＤ］

米FlexICs，プラスチック・ シート上へのTFT形成 技術を実用化へ

技術レター［ＦＰＤ］

「PSone」専用の 液晶モニターを発売 韓国Samsung製の模様

技術レター［ＦＰＤ］

東芝，アモーファス Si—TFT液晶製造会社での 事業を開始

技術レター［ＦＰＤ］

1000×1200mm2対応の 液晶向け露光装置を キヤノンが発売

技術レター［ＦＰＤ］

米TI，QXGAまで対応する TFT液晶向けソース・ ドライバをサンプル出荷

特別企画

「Siのプロ」が足りない

特別企画 前半

システムLSI開発で 苦悩する機器メーカー

特別企画 後半

インタビュー集

特集

「CEATEC JAPAN 2001」プレビュー

韓国Hynix，TFT事業を　台湾Candoグループに　6億5000万米ドルで譲渡

国内LSI各社から　業績の大幅下方修正と　生産ラインの集約相次ぐ

PDPの年末商戦　国内大型テレビ市場の　10％を狙う

テロリスト攻撃の影響　「年末商戦が心配」と　JEITA会長の森下氏

積極開放に方針転換した　台湾の対中国政策　課題山積で先が見えない

200mmウエーハに関する　対中国投資は解禁の方向へ　TSMCは上海進出を示唆

Siファウンドリ2社の　売上高が対前月比プラスへ　稼働率も若干回復

TFT液晶市場で日本の　存在感が低下，シェアで　韓国に首位を明け渡す

「シリコンシーベルト福岡」　福岡県知事が構想を発表　システムLSIの設計拠点へ

半導体製造装置の　BB比上昇は見かけ上　プリント基板も同様か

GaAsの製造歩留まりを　上げる新プロセスを開発　中間層に新材料を導入

NAND型フラッシュ　1Gチップの製品発表で　韓国Samsungが先行

カーボン・ナノチューブ上の　論理回路，米IBMが　選択的な熱処理技術で実現

SPM応用のEB露光技術を　日立基礎研が開発　試作で線幅25nmが可能

超微量元素の検出技術や　GaN系の希薄磁性半導体が　登場した「応用物理学会」

LSI向けSCMシステム　米KLA—Tencorと　米GetSiliconが共同開発

IPテストのための　標準仕様を　米VSI　Allianceが策定

PCインタフェースは　シリアルに，米Intelが　3方式を開発中

「SuperH」マイコンと　複数のメモリーを　日立が1パッケージ化

MEMS技術を使った　回転加速度センサー　LSI大手2社が製品へ

米FlexICs，プラスチック・　シート上へのTFT形成　技術を実用化へ

「PSone」専用の　液晶モニターを発売　韓国Samsung製の模様

東芝，アモーファス　Si—TFT液晶製造会社での　事業を開始

1000×1200mm2対応の　液晶向け露光装置を　キヤノンが発売

米TI，QXGAまで対応する　TFT液晶向けソース・　ドライバをサンプル出荷

特別企画　前半

システムLSI開発で　苦悩する機器メーカー

特別企画　後半

「CEATEC　JAPAN　2001」プレビュー

シリコン・サイクルに　底打ちの兆し

基板とパネルの寸法に見る　TFT液晶の発展史

Liイオンの容量を一ケタ　上回る携帯向け電池登場　要素技術開発が相次ぐ

松下電器がPDPの　新工場を立ち上げ　世界展開の足掛かりに

システムLSI量産技術の　二つの開発プロジェクト　東北大学で本格始動

米Intelがプロセサ開発で　マイクロアーキテクチャの　二つの新技術を明らかに

Pbフリーの国際的な　技術ロードマップ目指し　欧米ユーザー組織が奔走

不況下の今こそ　半導体メーカーが積極的な　企業戦略を固める時期

携帯電話需要は底堅い　踊り場脱し再び成長軌道へ

シリコンバレー型経営から　日本は何を学ぶか

失敗と成功に学んで　マーケティング文化を普及

LSI設計基盤の整備に向け　ライブラリの品質を向上

連載［デザイン］　囲み

分業型ビジネスの拡大狙い　TSMCがライブラリやIPを整備