日経マイクロデバイス 2001/10号

技術レター[LSI製造]
SPM応用のEB露光技術を 日立基礎研が開発 試作で線幅25nmが可能

 走査型プローブ顕微鏡(SPM)を応用し,25nmの線幅パターンを形成できる電子ビーム(EB)露光技術を日立製作所基礎研究所が開発した。SPMのプローブと,レジストを塗ったSi基板の間に電圧を印加し,プローブからのEB照射で局所的に露光する。基本的な考え方は従来からあったが,EB照射量の制御が難しく,複雑なパターンを露光できなかった。(31ページ掲載記事から抜粋) *テキスト版記事の文字数:329文字

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日立製作所
update:19/09/26