日経マイクロデバイス 2001/11号

μレポート[LSI製造]
0.1μmの露光技術で 最大課題の マスク量産技術にメド
新方式の欠陥検査・修正装置が登場

0.1μmルールにおける露光技術の最大の課題だったマスク量産技術にメドが立った。マスクの欠陥を検査・修正するのに必要な装置が出てきたためである。「マスクが高すぎてビジネスにならない」とするシステムLSI関係者の不満を解消する。第1弾として,2001年9月にDUVレーザーを使ったマスク欠陥検査装置を,NECネットワークスが製品化した。(147〜148ページ掲載記事から抜粋) *テキスト版記事の文字数:2275文字

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【記事に含まれる分類カテゴリ】
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【記事に登場する企業】
NECネットワークス
update:19/09/26