日経マイクロデバイス 2001/11号

技術レター[LSI製造&LSI設計]
東芝,SOIウエーハ 「ELTRAN」を使った LSIを2003年に製品化

 キヤノンが開発したSOI(silicon on insulator)ウエーハ「ELTRAN」を使ったLSIの実用化に向けて,東芝とキヤノンが共同開発を進める。東芝は,2003年に0.1μm,2004年には0.07μmのLSIを製品化する。東芝はSOIを使ったLSIの開発結果をキヤノンに提供してウエーハの改良を促進する。(39ページ掲載記事から抜粋) *テキスト版記事の文字数:328文字

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キヤノン
東芝
update:19/09/26