日経マイクロデバイス 2001/12号

μレポート[LSI製造]
一歩抜け出た EB縮小投影技術 0.07μm以降を担う
強みは装置とインフラの並行開発

電子ビーム(EB)を使った次世代露光技術の開発競争で,ニコンのEB縮小投影露光技術が実用化に向けて一歩抜け出た。これまでは,縮小投影のほかに低加速電圧のEBを使った等倍露光技術やマスクレスの部分一括露光技術が候補に挙がっていた。(192〜195ページ掲載記事から抜粋) *テキスト版記事の文字数:4637文字

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【記事に含まれる分類カテゴリ】
エレクトロニクス > CPU・LSI製品・技術 > IC・LSI
【記事に登場する企業】
ニコン
update:19/09/26