日経マイクロデバイス 2003/04号

論文[LSI製造]
90nm量産を可能にする 欠陥検査技術が登場

The Advent of Defect Inspection Technology Makes Mass Production of 90nm PossibleIn the 100nm and finer process technology nodes, pattern defect inspections are difficult. Process engineers have developed a sense of crisis due to the existence of a limit in respect to detection sensitivity and throughput in…(95〜101ページ掲載記事から抜粋) *テキスト版記事の文字数:7623文字

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update:19/09/26