日経マイクロデバイス 2004/01号

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次世代露光技術の主力を 「ArF液浸」に絞ったのはなぜか? 二コンがその理由を明らかに

 ニコンが,次世代露光技術の主力を「ほぼArF液浸に絞った」(同社執行役員精機カンパニー開発本部本部長の牛田一雄氏)。現在,量産に使われているArFエキシマ・レーザー露光の次に使われる露光技術としては,ArFと液浸技術を組み合わせる「ArF液浸」と「F2エキシマ・レーザー」の二つが候補に挙がっている。(119ページ掲載記事から抜粋) *テキスト版記事の文字数:632文字

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【記事に含まれる分類カテゴリ】
エレクトロニクス > エレクトロニクス設計・製造 > エレクトロニクス製造技術・装置
【記事に登場する企業】
ニコン
update:19/09/26