日経マイクロデバイス 2004/01号

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2004年にPOC機,2005年に開発用装置 ニコンがArF液浸の 開発スケジュールを明かす

 ニコンのArF液浸装置の開発スケジュールが明らかになった。2004年にPOC(proof of concept)機を開発し,2005年にLSIメーカーに市販する開発用装置を「2005年に出荷することが目標」(同社)である。量産対応機は2006年に出荷する可能性が高い。POC機は,同社のArF露光装置「NSR—S307E」をベースに開発する。NSR—S307Eと同じレンズ系を使うため,開口数(NA)は0.85になる。(119ページ掲載記事から抜粋) *テキスト版記事の文字数:427文字

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【記事に含まれる分類カテゴリ】
エレクトロニクス > エレクトロニクス設計・製造 > エレクトロニクス製造技術・装置
【記事に登場する企業】
ニコン
update:19/09/26