日経マイクロデバイス 2004/01号

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オランダASML 液浸ArFのロードマップ示す

 オランダASM Lithography(ASML)社は,液浸を使ったArFエキシマ・レーザー露光装置の技術開発ロードマップを「セミコン・ジャパン 2003」で示した。同社初の量産向け評価装置「XT:1250i」は2004年第3四半期に出荷する。第1号機は台湾Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd.(TSMC)が導入を決めている。(119ページ掲載記事から抜粋) *テキスト版記事の文字数:292文字

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【記事に含まれる分類カテゴリ】
エレクトロニクス > エレクトロニクス設計・製造 > エレクトロニクス製造技術・装置
【記事に登場する企業】
蘭ASMリゾグラフィ社
update:19/09/26