日経マイクロデバイス 2004/01号

Report[Memory]
ArF液浸向け露光装置 大手3社が一斉に製品化へ
技術課題の克服にメド

 露光装置大手3社が液浸技術に対応したArFエキシマ・レーザー露光装置の開発を急加速させている(図1)。このような姿が,2003年12月3〜5日に開かれた「SEMICON Japan 2003」で明らかになった。液浸は光学レンズとウエーハの間に液体を浸して屈折率を高め,解像度や焦点深度を改善する技術である。(125〜126ページ掲載記事から抜粋) *テキスト版記事の文字数:2044文字

この記事をオンラインで読む
買い物カゴに入れる165円
買い物カゴに入れる(読者特価)83円
 特価が表示されない場合は下の (※)をご覧ください

(※) 「読者特価」でご購入の際、日経IDに未ログインの場合は途中で通常価格が表示されることがあります。ご購入画面をそのまま進んでいただき、「次へ(お客様情報の入力へ)」のボタン押下後に表示されるログイン画面で日経IDをご入力ください。特価適用IDであれば、表示が特価に変わります。

関連カテゴリ・企業名
【記事に含まれる分類カテゴリ】
エレクトロニクス > エレクトロニクス設計・製造 > エレクトロニクス製造技術・装置
【記事に登場する企業】
蘭ASMリゾグラフィ社
キヤノン
台湾・タイワン・セミコンダクター・マニュファクチュアリング社
ニコン
update:19/09/26