日経マイクロデバイス 2004/02号

Cover Story
リソの存在意義を問う
Lithography Independent Devices

リソグラフィ(露光)技術の存在意義が揺らいでいる。メモリーLSIは高集積化のペースが速まり,露光技術の進化がデバイスの要求に追い付かなくなってきた。ロジックLSIは,動作速度や消費電力を改善させる手段として,露光技術がほとんど機能しなくなっている。(25ページ掲載記事から抜粋) *テキスト版記事の文字数:1073文字

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この特集全体
Cover Story(25ページ掲載)
リソの存在意義を問う
Cover Story Part1(26〜29ページ掲載)
露光が追い付かないメモリー 微細化の効果が薄れるロジック
Cover Story Part2(30〜39ページ掲載)
米Intelが次世代メモリーに提言 「リソを超える微細化技術が必要」
Cover Story Part3(40〜45ページ掲載)
2004年●ひずみSi Intelが90nmで導入
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エレクトロニクス > エレクトロニクス設計・製造 > エレクトロニクス製造技術・装置
update:19/09/26