日経マイクロデバイス 2004/02号

Cover Story Part1
露光が追い付かないメモリー 微細化の効果が薄れるロジック
動向

LSIの進化を担ってきたリソグラフィ(露光)技術開発の存在意義が揺らいでいる。データ格納向けのメモリーLSIでは大容量化が急速に進み,露光技術の進化がデバイスの要求に追い付かなくなってきた。データ処理向けのロジックLSIでは,露光技術によって微細化を進めても,これまで通りの高速・低消費電力化は達成できなくなりつつある。(26〜29ページ掲載記事から抜粋) *テキスト版記事の文字数:4111文字

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この特集全体
Cover Story(25ページ掲載)
リソの存在意義を問う
Cover Story Part1(26〜29ページ掲載)
露光が追い付かないメモリー 微細化の効果が薄れるロジック
Cover Story Part2(30〜39ページ掲載)
米Intelが次世代メモリーに提言 「リソを超える微細化技術が必要」
Cover Story Part3(40〜45ページ掲載)
2004年●ひずみSi Intelが90nmで導入
関連カテゴリ・企業名
【記事に含まれる分類カテゴリ】
エレクトロニクス > CPU・LSI製品・技術 > メモリー
エレクトロニクス > CPU・LSI製品・技術 > IC・LSI
エレクトロニクス > エレクトロニクス設計・製造 > エレクトロニクス製造技術・装置
【記事に登場する企業】
米インテル社
update:19/09/26