日経ものづくり 2004/03号

レポート
東大先端研,わずか3分で セラミックスの結晶化に成功
広範な応用展開をにらんでコンソーシアム組織へ

通常,数時間かかる非晶質の膜の結晶化が3分で済む─。東京大学が開発した「常温高速結晶化処理技術」は高周波プラズマを利用し,さまざまな物質を100℃以下の温度で結晶化するもの。処理時間が短いため,結晶化工程を生産ラインに組み込める。基板側のダメージが少ないから,さまざまな材料の上に成膜できる。(17ページ掲載記事から抜粋) *テキスト版記事の文字数:1434文字

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東京大学先端科学技術研究センター
update:19/09/26