日経マイクロデバイス 2004/07号

Emerging Technology
「ナノの光」で極細パターンを実現 “近接場光”がリソの限界を超える

 マスクの表面にまとわりつくように生じる光「近接場光」を使って回路パターンを形成する。そんな型破りな手法で,従来のリソグラフィ技術の限界を超えられる可能性が見えてきた。近接場光は,光が照射された物質の表面から数nm〜100nmの近傍に生じる電磁波である。マスクに光を当てると,そのエッジには数nm幅といった極めてシャープな光が生じる。(5ページ掲載記事から抜粋) *テキスト版記事の文字数:1043文字

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update:19/09/26