日経マイクロデバイス 2004/07号

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韓国Samsungが 70nmDRAMプロセス技術を開発 「電気特性を大幅に向上できる」

 韓国Samsung Electronics Co.,Ltd.はCVD方式を活用した70nmルールのAlプロセス技術を開発した。70nmでキーになるDRAMプロセス技術を相次いで開発し,次世代をリードする意向である。CVD Alプロセス技術は,Alを含んだ金属化学物質を化学反応でウエーハ表面に蒸着し,配線にする。これにより,配線の電気的特性を大幅に向上できるとする。(106ページ掲載記事から抜粋) *テキスト版記事の文字数:539文字

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update:19/09/26